本の説明です
より

リアライズ理工センター
1999/7/28発売
475ページ
定価52000円

LSIの微細化が進む中, 汚染の低減は半導体製造の最大課題の一つであり, その解決には多くの努力が必要になってきた。このためにはシリコンウェーハなどの材料, 製造, または検査設備, ファシリティなど供給系にも汚染の低減が要求され, デバイスメーカと供給メーカが協力して低減に向かわなければならないが, 汚染に対する仕様はデバイスメーカ, またはその技術者によりまちまちで供給メーカの設計をどうするか困惑している状況である。このような状況ではデバイスメーカ間で共通の仕様を提示することが経済的にLSIを製造するポイントであるが, 現状ではデバイスメーカも見解が定まらない状況にある。 このようなことからデバイスメーカが汚染をどのように考えているか, 実際の問題は何か, 汚染の許容量・仕様をどうするかという調査が本書のテーマである。この調査は計4回の汚染シリーズセミナーとそのときのパネルディスカッションで行ったが, 実際にはいくつかのグループで議論し, できるだけ共通の問題と捉えて検討を行った。この調査を通してわかったことはデバイスメーカでも完全な情報をもっているわけではなく, このような調査やセミナーを通して議論をまとめていくことが重要であることである。 本書はパーティクル汚染, 金属汚染, 化学汚染に分け, 調査結果からいくつかの質問をその分野の専門家に投げかけ, 解答となる論文などを掲載した。元来, 供給側の技術者にLSI製造の実態を理解してもらうために作成した書籍であるが, デバイスメーカも他の技術者の考えを理解することが重要である。 本書は汚染に関する理解の共有化(一致化)の第一歩であり, 様々な意見を付加して少しづつ認識が一致することを望んでいる。LSI製造, プロセスに関わる多くの技術者に一読いただき, 多くの意見を集結でき, 経済的に優れた材料, 設備等が得られればこの上もない幸せである。